日本加速光刻技术突破，或将挑战荷兰垄断
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日本加速突破光刻壁垒，将芯片制造引向新时代？
东京 - 在全球半导体芯片市场竞争日趋白热化的背景下，日本作为科技强国，展现出强大的决心和实力，积极布局半导体及光刻机领域。
光刻技术被视为芯片制造的核心，而荷兰公司长期占据着绝大多数市场份额，尤其是在高端极紫外光刻机方面几乎垄断着80%的市场。 此局面让全球半导体产业面临着前所未有的挑战和机遇。 日本看到了发展光刻技术的紧迫性，并加快布局。
近日，日本佳能公司在纳米压印光刻技术上取得突破，其可实现低于5纳米的精细化分辨率，成本更低，有望替代传统光刻工艺。据佳能透露，他们已实现5制程工艺的量产，并将计划在2025年内将技术推向2级别，与荷兰公司形成竞争力。
同时，日本高能加速器研发组织也宣布取得重大突破，研发出利用粒子加速器产生更短波长光源的新技术，成本更低，且具有更高的性价比。 此项技术有望替代现有的光源，为光刻技术的革新提供新的可能性。
一些媒体甚至预测，未来将不再需要传统的光刻机！ 这展现了日本在光刻技术领域追求卓越的野心和实力。
日本的光刻技术突破不仅展示了其半导体芯片制造领域的强大实力，也预示着未来半导体芯片产业的发展趋势。 国产科技企业需要积极跟进，加强自主研发步伐，以摆脱对国外技术的依赖。